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實(shí)時(shí)關(guān)注光磁自動(dòng)化設(shè)備動(dòng)態(tài),掌控自動(dòng)化行業(yè)發(fā)展軌跡
更廣范圍(UV,DUV,NUV)的紫外光波長選擇,出射光強(qiáng)范圍: 8mW/cm2~40mW/cm2
支持恒定光強(qiáng)或恒定功率模式
廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子、生物器件和納米科技領(lǐng)。
常見曝光機(jī)舉例:MYCRO美國制造的恩科優(yōu)(N&Q)紫外曝光系統(tǒng),適用于從特殊大小的基片到4尺寸很寬廣范圍材料的紫外或深紫外光曝光。NXQ400-6系統(tǒng)成功地應(yīng)用于半導(dǎo)體制造,光電電子,平板,射頻微波,衍射光學(xué),微機(jī)電系統(tǒng),凹凸或覆晶設(shè)備和其他要求精細(xì)印制和精度對(duì)準(zhǔn)的應(yīng)用。
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